7月19日，中国科学院“外国专家特聘研究员”——德国夫琅和费集成系统与器件技术研究所（Fraunhofer IISB）的Andreas Erdmann博士来所开展学术交流并作 。

在题为“Modeling of defect inspection and detection and disposition using optical image projection”的报告中，Andreas Erdmann博士详细介绍了纳米结构缺陷的分析和检测方法，讨论了其在极紫外光刻掩模三维缺陷检测和光栅缺陷检测中的应用，并报告了2012年“外国专家特聘研究员”项目合作研究计划。信息光学与光电技术实验室王向朝主任、实验室相关研究人员和研究生参加了学术交流报告会。双方就报告内容涉及的相关问题开展了深入的交流和讨论。

Andreas Erdmann博士从1999年开始担任德国弗劳恩霍夫集成系统和元器件技术研究所光刻模拟组组长。目前主要从事光学光刻和极紫外光刻(EUVL)模拟、光刻软件开发以及光刻模型在评估和优化在半导体工艺光刻过程中的应用等方面的研究。2012年，Andreas Erdmann博士通过中国科学院国际合作局评审，受聘为中国科学院“外国专家特聘研究员”。（信息光学与光电技术实验室供稿）