1970年毕业于东京工业大学理学部电子工学科，之后进入日立中央研究所工作。1980年在美国伦斯勒理工学院（Rensselaer Polytechnic Institute)留学一年。1994年获得东京工业大学工学博士学位。1995年进入日立半导体事业部，1998年转入日立设备开发中心工作，同年返回日立中央研究所，并调职至日本超先进电子技术联盟ASET（Association of Super-Advanced Electronics Technologies），担任EUV研究室室长，从事EUV光刻技术的研究。2002年就任ASET的EUV工艺技术研究部部长，2006年返回日立中央研究所。2008年从日立离职，进入Gigaphoton公司工作，调职至日本极紫外光刻系统开发协会EUVA（Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association）。现为Gigaphoton公司EUV开发部部长顾问，IEEE Fellow，SPIE Fellow，日本应用物理学会Fellow。 

   光刻技术的历史、发展现状（Immersion, Multiple Patterning），以及发展趋势（EUV、EB、DSA(Directed Self Assembly)技术等），并重点介绍Immersion、EUV以及Multiple Patterning Technology等技术。